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酒池耕平准教授の研究論文が米国物理学協会(AIP: American Institute of Physics)「AIP Advances」に掲載され、名誉ある「AIP Publishing Showcase」に選出されました

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本校の電子制御工学科教員、酒池耕平准教授の研究論文が米国物理学協会(AIP: American Institute of Physics)「AIP Advances」に掲載され、名誉ある「AIP Publishing Showcase(※)」に選出されました。

Congratulations - your article Silica conversion of polysilazanes by low-temperature plasma jet generated from Ar and water-vapor mixed gas has been selected to appear in the AIP Publishing Showcase on Kudos.

研究論文:「Silica conversion of polysilazanes by low-temperature plasma jet generated from Ar and water-vapor mixed gas」

酒池耕平准教授は、約1000 ℃で形成する熱酸化二酸化珪素(SiO₂)薄膜に匹敵する高品質SiO₂薄膜を、52℃というプラスチックフィルムが耐えうる低温で形成する技術の開発に成功しました。この成果は、下記に示す多くの先端分野の進展に貢献できる可能性を秘めています。
・ 高性能フレキシブルTFT(薄膜トランジスタ)のゲート絶縁膜としての応用
・ フレキシブルICおよびLSIの絶縁層としての応用
・ 透明エレクトロニクスの基盤としての応用
・ ガスバリア層としての応用
加えて、プラスチックフィルムは軽量で製造コストが低いため、SiO₂ 膜との組み合わせにより、環境に配慮した新しいエレクトロニクス製品の開発に繋がれば、持続可能な技術への貢献も期待できます。

【酒池准教授からのコメント】

酒池耕平_顔写真_1.jpg私たちが開発した技術は、次世代フレキシブルエレクトロニクスへの貢献にとどまらず、分野横断的な技術融合による革新的な製品の創出にも寄与する可能性を秘めています。この度のAIP Publishing Showcaseへの選出を機に、この技術がさまざまな分野の方々に広く認知され、フレキシブルエレクトロニクスに関連する技術の進歩や、ひいては世界の発展に貢献できることを心から願っています。



AIP Advancesはこちら↓
Silica conversion of polysilazanes by low-temperature plasma jet generated from Ar and water-vapor mixed gas | AIP Advances | AIP Publishing

AIP Publishing Showcaseはこちら↓
Silica conversion of polysilazanes by low-temperature plasma jet generated from Ar and water-vapor mixed gas - Kudos: Growing the influence of research

※「AIP Publishing Showcase」に選出いただいたことは、世界的に著名な AIP Publishing(米国物理学協会の出版部門)から、本研究の成果に対して特に優れた研究としての評価を頂き、世界中の人々に広く紹介する価値があると認めていただけたことを意味します。

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